来源:《仪器仪表学报》2002年第05期作者:于瀛洁,陈明仪,韦春龙
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干涉图去包裹位相的二次校正

相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分。一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时,会在处理结果中引入较大的算法误差。提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法,实现去包裹位相算法误差的有效消除。文中通过基于DCT变换的最小二乘去包裹算法为例进行了说明,并通过一光学平晶表面的处理结果对方法进行了验证。 (本文共计1页)......[继续阅读本文]

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