来源:《理化检验-物理分册》2008年第04期 作者:文军;陈长乐;潘峰;
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RF溅射稀土(La,Nd)掺杂ZnO薄膜的结构

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通过射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备了未掺杂和镧、钕掺杂ZnO薄膜。XRD分析表明,ZnO薄膜具有c轴择优生长,镧、钕掺杂ZnO薄膜为自由生长的纳米多晶薄膜。用AFM观测薄膜的表面形貌,镧、钕掺杂ZnO薄膜表面形貌粗糙。(本文共计4页)       [继续阅读本文]

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理化检验-物理分册杂志2008年第04期
理化检验-物理分册
主办:上海材料研究所
出版:理化检验-物理分册杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市

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