来源:《理化检验-物理分册》2005年第04期 作者:常继,姜传海,程凡雄,吴建生
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制备参数对磁控溅射CoSi_2薄膜织构的影响

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采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响。结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构。织构的形成受溅射参数的影响。溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈。当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程。(本文共计4页)       [继续阅读本文]

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理化检验-物理分册杂志2005年第04期
理化检验-物理分册
主办:上海材料研究所
出版:理化检验-物理分册杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市

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