来源:《理化检验-物理分册》2000年第10期 作者:苏玉长,尹志民,徐仲榆
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用原位X射线衍射法对电化学插层过程的研究

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采用原位 X射线衍射技术研究了石墨在 65% HNO3中的电化学插 (脱 )层过程 ,提出了一套处理 XRD图谱的数据处理方法。(本文共计3页)       [继续阅读本文]

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理化检验-物理分册杂志2000年第10期
理化检验-物理分册
主办:上海材料研究所
出版:理化检验-物理分册杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市

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