中国知网旗下电子杂志网站
充值中心
我的数字书房
我的购物车
下载阅读器
首页
文化
文艺
科普
教育
财经
机构阅览室
吾喜美文
吾喜美图
杂志
文章
kIndex
rev
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
来源:
《理化检验-物理分册》2000年第10期
作者:苏玉长,尹志民,徐仲榆
选择字号
大
中
小
用原位X射线衍射法对电化学插层过程的研究
分享到:
采用原位 X射线衍射技术研究了石墨在 65% HNO3中的电化学插 (脱 )层过程 ,提出了一套处理 XRD图谱的数据处理方法。
(本文共计3页)
[继续阅读本文]
相关文章推荐
理化检验-物理分册
主办:上海材料研究所
出版:理化检验-物理分册杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市
本期目录