来源:《化学学报》2008年第03期 作者:刘红;陈燕芹;王一波;
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SiH_4与HX(X=F,Cl,Br,I)形成的二氢键复合物的结构特性及本质

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对SiH4与HX形成的二氢键复合物的结构特征及本质进行了探讨.在MP2/6-311++G(3d,3p)水平优化、频率验证得到复合物的分子结构,通过分子间距离及电子密度等值线图,确认SiH4与卤化氢已形成了二氢键复合物.MP2/6-311++G(3d,3p)水平下进行BSSE校正后的结合能为2.703~4.439kJ/mol.用对称匹配微扰理论对结合能进行分解,分解结果显示,SiH4…HX(X=F,Cl,Br,I)二氢键复合物中静电能对总吸引能的贡献小于28%,并且相对稳定,这就是说SiH4…HX二氢键复合物的本质并非静电作用,而是静电能、诱导能、色散能、交换能对总结合能的贡献都非常重要.(本文共计7页)       [继续阅读本文]

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化学学报杂志2008年第03期
化学学报
主办:中国科学院上海有机化学研究所;中国化学会
出版:化学学报杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市

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