来源:《化学学报》2008年第01期 作者:王飞;韦奇;王艳丽;于春晓;钟振兴;李群艳;聂祚仁;
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碳氟基团修饰的疏水微孔二氧化硅膜的制备与表征

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采用三氟丙基三乙氧基硅烷(TFPTES)和正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了三氟丙基修饰的SiO2膜材料.利用扫描电镜、N2吸附、红外光谱仪以及视频光学接触角测量仪对膜的断面形貌、孔结构以及疏水性能进行了表征.结果表明,随着三氟丙基三乙氧基硅烷加入量的增大,膜的疏水性逐渐增强,膜的孔结构基本保持不变.当TFPTES/TEOS的物质的量之比达到0.6时,膜对水的接触角达到111.6°±0.5°,膜材料仍保持良好的微孔结构,其孔体积为0.19cm3·g-1,孔径为0.97nm.氢气在修饰后SiO2膜中的输运遵循微孔扩散机理,200℃时膜材料的H2渗透率达到1.18×10-7mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO2的分离系数达到7.0.(本文共计5页)       [继续阅读本文]

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化学学报杂志2008年第01期
化学学报
主办:中国科学院上海有机化学研究所;中国化学会
出版:化学学报杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市

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