来源:《高等学校化学学报》1996年第08期 作者:丁杰,董绍俊
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导电高分子薄膜修饰电极的研究(Ⅱ)──杂聚阴离子掺杂聚吡咯膜的性质

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制备了钨钴酸根与钨铜酸根阴离子掺杂的聚吡咯膜电极,并对其电化学行为进行了初步研究。结果表明,在微酸性或近中性的溶液中,该电极有良好的电化学稳定性及循环伏安行为。聚吡咯膜对钨铜酸根阴离子的第2个氧化还原过程有明显的催化作用。电子自旋共振显示杂聚阴离子与聚吡咯分子链形成了某种复合物,此复合物对聚吡咯电结构的影响随阴离子的不同而异。(本文共计4页)       [继续阅读本文]

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高等学校化学学报杂志1996年第08期
高等学校化学学报
主办:吉林大学
出版:高等学校化学学报杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:吉林省长春市

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