来源:《电子世界》2021年第05期 作者:王新伟;王宁;陈伟涛;李云娜;汪宗源;周贺;
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TFT-LCD产业中PVX OPEN不良改善研究

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<正>通过对TFT-LCD制造中PHOTO工艺PVX OPEN不良产生机理的研究,提出改善PVX OPEN不良的方法。分析表明PVX OPEN不良主要成因为PR胶涂布前细菌粘附在玻璃基板上,曝光显影后造成PR胶破洞,PVX刻蚀工序完成后形成对应位置PVX OPEN;通过改善生产气流及定期清理细菌等措施,PVX OPEN发生率由最初的6%以上降低到0.5%以下,且改善周期可持续2个月以上。随着薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)发展,(本文共计4页)       [继续阅读本文]

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电子世界杂志2021年第05期
电子世界
主办:中国电子学会
出版:电子世界杂志编辑部
出版周期:半月
出版地:北京市

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