来源:《电子世界》2019年第02期 作者:尹雨欣;
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晶体硅太阳能电池表面钝化技术研究进展

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<正>文章综述了晶体硅太阳能电池表面钝化技术的研究进展,主要包括SiN_x钝化、SiO_2钝化、SiO_2/SiN_x叠层钝化,Al_2O_3钝化以及TOPCon钝化接触,介绍了各钝化膜层的生长工艺、钝化原理及应用现状,讨论了各钝化膜层的优势与不足,并分析了太阳能电池表面钝化技术下一步发展的方向。引言:高效率、低成本是太阳能电池研究最重要的两个方向。对于晶体硅太阳能电池来说,随着晶体硅制造技术的提升,基体(本文共计2页)       [继续阅读本文]

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电子世界杂志2019年第02期
电子世界
主办:中国电子学会
出版:电子世界杂志编辑部
出版周期:半月
出版地:北京市

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