来源:《电子世界》2015年第23期 作者:林远镇;韦素芬;潘金艳;
选择字号

纳米工艺下集成电路物理集成设计人才的培养探索

分享到: 分享到QQ空间

本文介绍16nm FinFET工艺下集成电路的物理集成流程,分析了先进工艺下物理集成工程师所面临的问题和挑战。为了更好地适应新的要求,对我国高校IC人才培养的相关环节提出了探索性的建议。(本文共计2页)       [继续阅读本文]

下载阅读本文     订阅本刊
   

相关文章推荐

电子世界杂志2015年第23期
电子世界
主办:中国电子学会
出版:电子世界杂志编辑部
出版周期:半月
出版地:北京市

本期目录