来源:《电子技术》2020年第01期 作者:李佳;杨志斌;
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高纯气体的湿度控制方法

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随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,对AMC(气相分子污染物)引起的污染问题越来越重视。投影光刻机中对AMC的浓度的控制,通常使用高纯气体(如高纯氮气、超洁净干空气、超洁净湿空气等)"气浴"吹扫关键元器件,可有效阻断AMC的扩散、稀释AMC的浓度。阐述超洁净湿空气在投影光刻机中的应用以及超洁净湿空气的制备、湿度控制方法等。通过实验分析影响湿度控制的主要因素。(本文共计3页)       [继续阅读本文]

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电子技术杂志2020年第01期
电子技术
主办:上海市电子学会;上海市通信学会
出版:电子技术杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:上海市

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