来源:《高等学校化学学报》1999年第02期 作者:牛国兴,曹志松,李全芝,黄曜黄,郁芳
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NiO在USY分子筛、γ-Al_2O_3及其混合载体上的NO吸附行为和分布规律

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运用红外技术和高斯函数对红外谱图进行分峰拟合,研究了对NiO在USY分子筛、γ-Al2O3和混合载体上的对NO吸附规律,并推断出不同NiO含量时,Ni2+在这些载体上的分布.结果表明:位于γ-Al2O3表面、USY分子筛SⅡ、SⅠ位和SⅡ位的Ni2+离子吸附NO时,它们的吸附频率分别为1855~1875、1900和1905cm-1.NiO在γ-Al2O3的体相和表面间存在分布平衡,约有75%NiO存在于γ-Al2O3体相中.在USY分子筛上,Ni2+分布于分子筛SⅠ位的趋势远大于SⅡ和SⅡ、SⅠ位.增加NiO含量将增强这种趋势.在混合载体上,Ni2+分布于Al2O3表面的能力大于分布于分子筛的SⅡ和SⅡ、SⅠ位,增加NiO量,分布于γ-Al2O3表面及USY分子筛SⅡ位的Ni2+量显著增加,而分布于分子筛SⅡ、SⅠ位的Ni2+量受其影响较小(本文共计6页)       [继续阅读本文]

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高等学校化学学报杂志1999年第02期
高等学校化学学报
主办:吉林大学
出版:高等学校化学学报杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:吉林省长春市

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