来源:《分析化学》1993年第12期 作者:王雪梅,陈洪渊,李生勇,王俊德
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表面表征仪器分析方法的新进展

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影响表面和界面薄层性能的因素很多,主要有:表面与界面上的化学组成、显微构型及其掺杂物、污染物和缺陷结构的分布状态等等。探测这些表面薄层性能的各种技术目前已日臻完善、成熟,其中以表面表征的仪器分析方法尤为引人注目。本文着重对该研究领域中令人关注的仪器分析技术的应用状况和最新动态进行了简要介绍和评述。包括:扫描隧道显微术、二次离子质谱、Rutherford反向散射光谱、X射线电子谱、Auger电子谱、表面能谱、掠射角X射线衍射技术、PIXE技术、原子力显微术以及拉曼和红外光谱及其光谱电化学技术等。(本文共计11页)       [继续阅读本文]

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分析化学杂志1993年第12期
分析化学
主办:中国化学会;中国科学院长春应用化学研究所
出版:分析化学杂志编辑部
出版周期:月刊
出版地:吉林省长春市

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