来源:《电子世界》2019年第09期 作者:周东淇;董杰;金哲山;杨晓东;周立;张猛;胡毓龙;张杰峰;刘晓婷;
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新型CFC结构对PECVD膜层clean性能提升的研究

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<正>随着PECVD设备逐渐老化,上部电极(Diffuser)挂Particle的能力变差,腔室进行Clean时四角的Clean能力降低,Clean时间加长,为保证产品品质,需增加腔室的Clean时间,因此增加了NF3用量和成本,严重的还会导致个别腔室出现四角膜层聚集,影响产品良率和品质。新型CFC(Corner Flow Cleaning)装置,其原理是通过气流引导,让更多的NF3气体流向四角,有效增强四角Clean能力,达到降低Clean时间和确保品质的目的。(本文共计2页)       [继续阅读本文]

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电子世界杂志2019年第09期
电子世界
主办:中国电子学会
出版:电子世界杂志编辑部
出版周期:半月
出版地:北京市

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